
la concentration d’azote peut souffler ce waf
Dans le processus de fabrication de semi-conducteurs, l’azote est utilisé pour souffler la plaquette afin de nettoyer la surface de la plaquette, d’éliminer l’humidité, les impuretés et les contaminants éventuels et d’empêcher l’oxydation de la plaquette.
En général, pour assurer la propreté de la surface de la plaquette et prévenir l’oxydation, il est recommandé d’utiliser une concentration d’azote d’au moins 99,5 %. L’azote de haute pureté peut éliminer efficacement l’oxygène et l’humidité dans l’air, évitant ainsi la pollution ou l’oxydation de la plaquette.
Bien sûr, les exigences spécifiques de concentration d’azote peuvent varier en fonction des différents processus. Dans l’application pratique, la concentration d’azote appropriée doit être déterminée en fonction des exigences spécifiques du processus et des spécifications de l’équipement.